国产浸没式DUV光刻机启动小批量生产，2026年预计交付5台

数码前线

最近路透社和The Information都报道了一则消息：一家总部在上海的中国企业已经开始小批量生产浸没式DUV光刻机。这批设备预计今年内交付约5台，主要面向中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等国内头部晶圆厂，2027年的产量规划大概在20台左右。
从制程覆盖来看，这批设备主打28nm成熟工艺节点，通过多重图形化技术可以支持等效7nm级别的芯片生产。这个定位比较务实——没有一上来就瞄准最先进制程，而是先解决成熟工艺领域的设备自主化问题。
供应链方面，报道提到主要零部件已经实现国产化，但还有小部分关键零部件需要从日本进口。这意味着整条产线的自主可控程度在提升，不过完全摆脱外部依赖还需要时间。消息出来后，ASML股价应声下跌6%，市场显然在重新评估中国半导体设备市场的竞争格局。
客观来说，5台的交付量和ASML每年上百台的出货量相比，规模上还有明显差距。光刻机从样机到稳定量产，中间需要解决的问题很多，包括设备稳定性、良率、维护体系等等。但对于国内半导体产业链来说，从"有没有"到"能不能用"这一步，意义是实实在在的。
现在的问题在于，小批量交付之后，这些设备在实际产线上的表现如何，能不能真正支撑起7nm等效制程的量产需求，以及那部分仍需进口的零部件后续有没有替代方案。这些才是决定国产光刻机能否真正进入主流供应链的关键。
你们觉得国产DUV光刻机小批量量产这个节点，对国内芯片产业的影响会有多大？

数码前线

🐱🐱🐂🐻